面对这三百毫米的超大焦面需求，也只能效仿美国人，走多片小芯片拼接的物理方案。”
张国忠看着屏幕上的尺寸数据提出推断。
“单片制造出三百毫米直径的感光芯片，目前的晶圆制造良率根本无法支撑。
硅片上的缺陷概率会随着面积呈几何倍数增加，整片流片的良品率绝对是零。”
张国忠拿过一支笔，在白板上画出几个方块的拼接图形。
“但是走拼接方案，在光机结构装配上是一条死胡同。”张国忠重重点在几个方块的交接处。
“韩院长之前对四米主镜进行形面控制，逼出了4.2纳米的面形精度。
光学系统的精度越苛刻，对焦平面空间位置的要求就越变态。”
张国忠转过身，面向全场的技术人员。
“三百毫米直径的焦面范围，如果用几十块小CCD芯片去拼。
每一块小芯片在经过减薄工艺后，本身的物理平面度会产生翘曲。
为了保证所有十亿个像素点，都能准确落在没有任何厚度容差的光学焦平面上，每一块拼上去的CCD硅片，其物理平面度的公差必须控制在一微米以内。”
张国忠报出具体数值。
“几十块芯片物理拼合完成后的整体共面性误差，绝对不能超过两微米。
不仅如此，这些芯片还要面临零下一百八十度的超低温工作环境。
底座的热胀冷缩会拉扯这些几微米薄的感光芯片。
只要产生三微米的物理扭曲位移，光学图像就会在探测器上变成模糊的重影，所有的光学分辨率全部失效。”
张国忠放下笔，坐回座位。
这就形成了一个物理级别的逻辑死循环。
造不出一整块大面积芯片，就必须拼。
只要拼，就不可能在物理连接处把微米级的厚度公差消除。
拼接产生的应力不一致和细微落差，在低温环境下会被放大，直接摧毁成像焦平面。
主镜抛光阶段，是在对抗单一材质的高硬度加工极值，虽然艰难，但有机械加工路径可走。
现在的焦面探测器，不仅要对抗微米级的光机装配误差，还要面临底层半导体光刻蚀的良率封锁。
战线从宏观物理力学，彻底转移到了微观电磁学和材料科学复合的半导体深水区。
在座的专家面对这种跨国别的工业基础代差，束手无策。
缺乏高精度的光刻机设备，缺乏极高纯度的硅材料底座，缺乏沉积工艺中的热场参数数据。
这些都不是单凭几个专家的经验，就能短时间试错摸索出来的。
韩栋坐在椅子上，目光落在笔记本屏幕上的各项指标参数。
他在脑海中快速过滤当前能够调用的所有资源底牌。
启航目前虽然拥有跨越时代的算力中心，但算力必须依附于实体工业设备去改变现实。
“赵所长。”韩栋抬起头，打破了会议室内的沉寂。
赵崇明立刻直起身子，看向韩栋。
“不用考虑多片拼接导致的光机共面性装配误差。”
“美国人在哈勃上采用四片拼接，是因为他们的半导体良率控制能力和光刻机动态补偿能力，达不到直接产出大面积无缺陷芯片的标准。”
“启航不搞拼接方案。”韩栋给出技术方向断言。
“抛弃传统的高装配容错思维，直接在三百毫米的单片高纯硅晶圆上，进行整圆刻蚀和减薄。”
众人内心掀起惊涛骇浪，更有甚者直接站了起来。
赵崇明睁大眼睛，难以置信的看着韩栋。
“韩院长，整圆刻蚀？那是十二英寸级别的晶圆满面积感光布线。
现在国外的半导体大厂，在这个尺寸上的芯片切割，都会产生极高的边缘缺陷率。
您要在这么大的单片晶圆上，做出十亿个毫无缺陷的感光像素，只要这三百毫米的面积上出现几十个无法捕捉光子的瞎点集群，整块晶圆就彻底报废！
这在现有的半导体曝光物理定律里是不可能的！”
“现有规律是由传统的试错数据定义的。”
“人类使用光刻机刻蚀硅片，依赖的是恒定的物理参数和事后的光学检测反馈。
光在透镜里的折射存在微小的热畸变，硅片在沉积过程中的热场分布存在区域不均。”
韩栋站起身，按下面前的系统直连终端。
“两年前，启航研制QX-3架构芯片的时候，在燕京建立了高标准的半导体无尘实验室和特种光刻设备。
启航在进行底层制程突破时，就已经将半导体工艺过程中的热动力学和光子偏转模型，全部导入了盘古超算的数据底层。”
大屏幕上的焦平面拼图方案被替换，盘古系统接管了显示权限。
一个布满无数细密网格线的三百毫米晶圆三维模型，出现在屏幕中心，模型上闪烁着成千上万个标红的数据点。
陆佳杰在侧方的控制台上进行授权操作，将大兴超算主节点的算力权限分配到会议室的沙箱中。
“盘古系统在半导体制造领域的应用，不是事后去检测哪里出了错，然后在下一炉进行修正。”
韩栋走向大屏幕，指着那些红色的数据点。
“而是在每一束紫外光射向光刻胶的瞬间，计算透镜受热产生的千万分之一毫米折射率变化。
在等离子体刻蚀晶圆表面的每一微秒，计算刻蚀气体浓度的微观分布差。”
“这是基于庞大算力的高频动态物理补偿。”韩栋向全场专家交底启航的半导体底牌。
“只要提供绝对精度的设备控制接口，盘古系统可以强行扭曲曝光路径去抵消误差热场。
用暴力算力干预微观晶格的重组，能把传统意义上的半导体良率，变成受控的绝对值。”
韩栋回到座位，看着还在消化这个信息的赵崇明。
“赵所长，把光电所过去十年在背照式CCD工艺上积累的残次品流片数据，特别是减薄工艺中断裂的硅片应力数据，全部汇编成数字档案上传给盘古。”
韩栋下达指令。
“科技需要不断打破边界才能发展，就在启航的实验室里，让盘古系统重新编写半导体的刻蚀物理规则。”